الهدف الاخرق التيتانيوم المستخدم في صناعة أشباه الموصلات
تستخدم أهداف رش التيتانيوم على نطاق واسع في صناعة أشباه الموصلات لترسيب الأغشية الرقيقة على رقائق السيليكون.تستخدم الأغشية الرقيقة في تصنيع الأجهزة الإلكترونية الدقيقة ، مثل الترانزستورات والصمامات الثنائية والدوائر المتكاملة.فيما يلي بعض الطرق المحددة التيأهداف الاخرق التيتانيومتستخدم في صناعة أشباه الموصلات:
أقطاب البوابة: تُستخدم أهداف رش التيتانيوم لإيداع أغشية رقيقة من التيتانيوم على رقاقات السيليكون لإنشاء أقطاب بوابة في ترانزستورات تأثير المجال من أكسيد المعدن وأشباه الموصلات (MOSFETs).تُستخدم أقطاب البوابة هذه للتحكم في تدفق التيار الكهربائي في الدوائر المتكاملة متعددة المراحل (MOSFET).
يربط: تُستخدم أهداف رش التيتانيوم لإيداع أغشية رقيقة من التيتانيوم على رقائق السيليكون لإنشاء وصلات بينية في دوائر متكاملة.تُستخدم هذه الوصلات البينية لتوصيل المكونات المختلفة للدوائر المتكاملة وهي ضرورية لتشغيلها.
حواجز الانتشار: تُستخدم أهداف رش التيتانيوم لإيداع أغشية رقيقة من نيتريد التيتانيوم (TiN) على رقائق السيليكون لإنشاء حواجز انتشار في الدوائر المتكاملة.تُستخدم حواجز الانتشار هذه لمنع انتشار المعادن في السيليكون ، مما قد يتسبب في تدهور الأداء وفشل الدوائر المتكاملة.
أقنعة حفر: تُستخدم أهداف رش التيتانيوم لإيداع أغشية رقيقة من التيتانيوم على رقائق السيليكون لإنشاء أقنعة حفر.تُستخدم أقنعة الحفر هذه لحماية مناطق معينة من رقاقات السيليكون أثناء عملية النقش ، والتي تُستخدم لإنشاء أنماط وميزات محددة في الدوائر المتكاملة.
في ملخص،أهداف الاخرق التيتانيومهي مواد أساسية في صناعة أشباه الموصلات وتستخدم لمجموعة واسعة من التطبيقات ، بما في ذلك أقطاب البوابة ، والوصلات البينية ، وحواجز الانتشار ، وأقنعة الحفر.